2026中國(上海)國際光刻膠材料展覽會
China (Shanghai) International Photoresist Materials Exhibition2026
〓基本信息〓
時間：2026年12月9-11日
地點：上海新國際博覽中心
〓展會簡介〓
2026中國(上海)國際光刻膠材料展覽會將集中展示光刻膠材料行業的最新產品與技術，為企業樹立品牌形象，促進貿易合作、市場開發，引領行業趨勢，加強生產、研發、銷售互動，深入洞悉國內外光刻膠材料及應用市場未來發展新風向，以發展的眼光挖掘未來光刻膠材料市場的新需求，創新展會內涵，全方位、多層次組織專業觀眾，我們竭力將此次展覽會辦成光刻膠材料展覽會界同仁交流的舞臺，推動光刻膠材料展覽會科技創新、提供發展商機，著力打造互惠共贏的平臺！
2026中國(上海)國際光刻膠材料展覽會定于2026年12月9日-11日于上海新國際博覽中心舉辦，邀請國內外專家與參會代表前來互動交流，探討行業發展趨勢，分享各自取得的經驗成果，同時也向國際光刻膠材料行業展再邁進堅實的一步！屆時，熱忱歡迎國內外的光刻膠材料企業及其相關行業人士前來參觀與交流！
〓日程安排〓
報到布展：
2026年12月7-8日 AM8:30-PM19:30
展出時間：
2026年12月09日 AM9:30-PM16:45
2026年12月10日 AM9:30-PM16:45
2026年12月11日 AM9:30-PM16:45
〓參展范圍〓
1.PCB光刻膠、干膜光刻膠、濕膜光刻膠、LCD光刻膠、TFT正性膠、彩色光刻膠、黑色光刻膠、G線光刻膠、線光刻膠、KRF光刻膠、ARF光刻膠、CCD攝像頭彩色濾光片光刻膠、MEMS光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、生物芯片光刻膠、LED光刻膠、半導體光刻膠等：
2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導體高端光刻膠、光刻膠配套試劑（PSPI）光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專用化學品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺（PI）、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導體化合物、光刻膠聚合物。
3.ASML光刻機、IC前道光刻機、紫外光刻機（EUV）光學、光刻設備、光刻膠用光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）光刻膠樹脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產酸劑、鋯前驅體集、生產、檢測等
〓聯系我們〓
聯系人：張先生13636604883（同微信）
2026年展會 1月 2月 3月 4月 5月 6月 7月 8月 9月 10月 11月 12月
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